1.什么是光刻技術(shù)？
光刻技術(shù)主要應(yīng)用在微電子中。它一般是對半導(dǎo)體進行加工，需要一個有部分透光部分不透光的掩模板，通過曝光、顯影、刻蝕等技術(shù)獲得和掩模板一樣的圖形。先在處理過后的半導(dǎo)體上涂上光刻膠，然后蓋上掩模板進行曝光；其中透光部分光刻膠的化學(xué)成分在曝光過程中發(fā)生了變化；之后進行顯影，將發(fā)生化學(xué)變化的光刻膠腐蝕掉，裸露出半導(dǎo)體；之后對裸露出的半導(dǎo)體進行刻蝕，后把光刻膠去掉就得到了想要的圖形。光刻技術(shù)在微電子中占有很大的比重，比如微電子技術(shù)的進步是通過線寬來評價的，而線寬的獲得跟光刻技術(shù)有很大的關(guān)系。
2.光刻膠
光刻膠又稱光致抗蝕劑，由感光樹脂、增感劑（見光譜增感染料）和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。光刻膠是一種感光材料，可用于多個工藝（如光刻和凸版印刷） 涂覆在襯底表面上形成圖形。感光樹脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)適當?shù)娜軇┨幚恚苋タ扇苄圆糠郑玫剿鑸D像（見圖光致抗蝕劑成像制版過程）。
3.光刻膠的分類 光刻膠的技術(shù)復(fù)雜，品種較多。根據(jù)其化學(xué)反應(yīng)機理和顯影原理，可分負性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負性膠；反之，對某些溶劑是不可溶的，經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。利用這種性能，將光刻膠作涂層，就能在硅片表面刻蝕所需的電路圖形。
光刻技術(shù)主要應(yīng)用在微電子中。它一般是對半導(dǎo)體進行加工，需要一個有部分透光部分不透光的掩模板，通過曝光、顯影、刻蝕等技術(shù)獲得和掩模板一樣的圖形。先在處理過后的半導(dǎo)體上涂上光刻膠，然后蓋上掩模板進行曝光；其中透光部分光刻膠的化學(xué)成分在曝光過程中發(fā)生了變化；之后進行顯影，將發(fā)生化學(xué)變化的光刻膠腐蝕掉，裸露出半導(dǎo)體；之后對裸露出的半導(dǎo)體進行刻蝕，后把光刻膠去掉就得到了想要的圖形。光刻技術(shù)在微電子中占有很大的比重，比如微電子技術(shù)的進步是通過線寬來評價的，而線寬的獲得跟光刻技術(shù)有很大的關(guān)系。
2.光刻膠
光刻膠又稱光致抗蝕劑，由感光樹脂、增感劑（見光譜增感染料）和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。光刻膠是一種感光材料，可用于多個工藝（如光刻和凸版印刷） 涂覆在襯底表面上形成圖形。感光樹脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)適當?shù)娜軇┨幚恚苋タ扇苄圆糠郑玫剿鑸D像（見圖光致抗蝕劑成像制版過程）。
3.光刻膠的分類 光刻膠的技術(shù)復(fù)雜，品種較多。根據(jù)其化學(xué)反應(yīng)機理和顯影原理，可分負性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負性膠；反之，對某些溶劑是不可溶的，經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。利用這種性能，將光刻膠作涂層，就能在硅片表面刻蝕所需的電路圖形。
